Россия до конца текущего года планирует освоить литограф, способный выпускать микросхемы размерностью 130 нанометров. Об этом сообщил первый вице-премьер Российской Федерации Денис Мантуров на пленарном заседании первого окружного отчетно-программного форума «Есть результат!».
По его словам, освоение нового оборудования должно состояться до конца года.
«До конца года мы должны освоить новый литограф 130 нанометров», — заявил Мантуров.
Он отметил, что в сфере микроэлектроники стране предстоит выполнить значительный объем работы, в том числе сократить технологический разрыв с мировыми лидерами.
Литография в микроэлектронике представляет собой процесс создания очень мелких структур на поверхности полупроводниковых материалов, формирующих микросхемы. Эта технология имеет ключевое значение для производства микропроцессоров.
Ранее в России совместно с Белоруссией был создан первый отечественный литограф на 350 нанометров — оборудование для нанесения рисунка на микросхемы.
Подписывайтесь на АиФ в  MAX
|
