Фотолитограф — оборудование для получения определенного рисунка на поверхности материала, который широко используется в микроэлектронике и других видах микротехнологий, а также при производстве печатных плат и полупроводниковых приборов. В начале этого года Минпромторг заказал разработку и освоение производства литографических материалов для микроэлектронного производства, выделив на эти цели из бюджета 1,1 млрд руб.
Заказ обусловлен прекращением поставок фоторезистов иностранного производства для изготовления интегральных схем. Работы должны быть выполнены до 12 декабря 2025 года.
Что такое фотолитография?
Суть процесса фотолитографии сводится к тому, что вначале на обрабатываемую поверхность наносится тонкая фоточувствительная полимерная пленка, затем она засвечивается через фотошаблон с заданным рисунком. Система литографии, по сути, является проекционной системой: свет проецируется через схему рисунка, который будет напечатан на кремниевых пластинах. Поскольку литография для изготовления устройств включает использование оптического воздействия для создания рисунка, полупроводниковую литографию обычно называют «фотолитографией».
Сама концепция литографии была изобретена в США в конце 1950-х годов и применялась в производстве микросхем с первых дней появления полупроводников. Производство чипов было основано в США, Техасе и Силиконовой долине, поэтому первыми пользователями литографии были в основном американские фирмы. В 1980-х и 1990-х годах индустрия пыталась перейти на более продвинутый тип литографии, называемый литографией EUV (экстремальное ультрафиолетовое излучение). Тогда многие исследования финансировались Intel и несколькими другими американскими производителями чипов и проводились в национальных лабораториях США, у которых было оборудование и возможности для тестирования, необходимые для того, чтобы сделать УФ-свет с необходимой длиной волны возможным. Однако в США не было фирмы, которая могла бы коммерциализировать это оборудование. Нидерландская ASML на тот момент уже производила инструменты для литографии старого поколения и имела возможность превратить науку в массовое производство устройств. На сегодняшний день самые передовые сканеры с использованием технологий 5 нанометров и даже ниже производит только ASML, а мировой центр производства микросхем на этих фотолитографиях находится на Тайване.
В отличие от других видов литографии в фотолитографии экспонирование производится светом (видимым или ультрафиолетовым). В Россию сейчас нельзя официально поставлять запчасти к этой технике, не говоря о готовом оборудовании, расходных материалах и комплектующих.
Голландия также ограничила экспорт технологий и оборудования в области производства полупроводников для Китая. Отныне компании ASML потребуются лицензии для поставок литографических машин, работающих в глубоком ультрафиолете. Власти заявили, что такие меры направлены на защиту национальной безопасности страны, указывая, что это оборудование может быть косвенно связано с военными применениями. Согласно новым правилам, с 1 сентября 2023 года компании, чье оборудование указано в списке, должны будут получать у властей Нидерландов экспортную лицензию.
Источники